이재용 회장 “출장 성과 90%가 반도체”

“반도체가 거의 90%였다.”

이재용 삼성전자 회장이 15일 오전 서울 김포공항 비즈니스센터를 통해 귀국하면서 이렇게 말했다. 

이재용 회장은 이날 경계현 디바이스솔루션(DS)부문장(사장)과 함께 귀국했다. 이들은 윤석열 대통령의 네덜란드 국빈 방문에 동행했다. 

앞서 삼성전자와 ASML은 지난 12일(현지시간) 네덜란드 ASML 본사에서 진행된 한·네덜란드 반도체 협력 협약식에서 업무협약(MOU)을 맺었다. 양사는 7억유로(약 1조원)를 투자해 차세대 노광장비 개발을 위한 극자외선(EUV) 공동 연구소 설립을 추진하기로 했다.

연구소는 국내 수도권에 설립될 예정이다. 국내 수도권 지역을 대상으로 부지 적합도 평가 중이다. 부지가 확정되면 내년 중 착공에 들어갈 예정이다. 

ASML은 최첨단 반도체 양산에 필요한 EUV 노광장비를 세계에서 유일하게 생산하는 기업으로, 반도체 업계에서는 '슈퍼 을(乙)'로 불린다.

ASML은 최첨단 반도체 양산에 필요한 EUV 노광장비를 세계에서 유일하게 생산하는 기업이다. ASML이 독점 공급하는 EUV 노광장비는 빛의 파장이 기존 장비보다 짧아 이를 이용하면 더 미세한 반도체 회로를 만들 수 있다. 특히 7나노 이하 반도체 초미세공정에 꼭 필요한 장비로 꼽힌다.

경계현 사장은 이날 “이번 ASML 방문을 계기로 이제 삼성이 ‘하이 뉴메리컬어퍼처(High NA) EUV’에 대한 기술적인 우선권을 갖게 됐다”며 “장기적으로 D램이나 로직에서 하이 NA EUV를 잘 쓸 수 있는 계기를 만들지 않았나 생각한다”고 말했다.

ASML의 하이 NA EUV 장비는 2나노미터(㎚·1㎚=10억분의 1ｍ) 공정의 핵심 장비다.

경 사장은 “이번 협약은 경기도 동탄에 공동 연구소를 짓고 거기서 하이 NA EUV를 들여와서 ASML 엔지니어와 삼성의 엔지니어들이 같이 기술 개발하는 것이 주목적”이라며 강조했다. 

그러면서 “장비를 빨리 들여온다는 관점보다는 공동 연구를 통해 삼성이 하이 NA EUV를 더 잘 쓸 수 있는 협력관계를 맺어가는 게 더 중요하다”면서 “EUV가 가장 중요한 툴 중 하나이기 때문에 이를 통해 전체적인 반도체 공급망 입장에서 굉장히 튼튼한 우군을 확보했다”고 덧붙였다. 

신종모 기자 jmshin@smartfn.co.kr